• <span id="0sqjk"></span>

    <li id="0sqjk"></li>
    <button id="0sqjk"></button><s id="0sqjk"><tr id="0sqjk"><u id="0sqjk"></u></tr></s>

      <th id="0sqjk"></th>

        <dd id="0sqjk"><noscript id="0sqjk"></noscript></dd>

        <th id="0sqjk"></th>
        <tbody id="0sqjk"><center id="0sqjk"></center></tbody>
      1. <span id="0sqjk"></span>
        技術文章您的位置:網站首頁 >技術文章 >干法刻蝕

        干法刻蝕

        發布時間:2020-11-05   點擊次數:396次

         

        在半導體制造中,干法刻蝕是用來去除表面材料的主要的刻蝕方法。干法刻蝕是把硅片表面暴露于氣態中產生的等離子體,等離子體通過光刻膠中開出的窗口與硅片發生物理或化學反應,從而去掉暴露的材料。

        一個等離子體干法刻蝕系統由發生刻蝕反應的反應腔、一個產生等離子體的射頻電源、氣體流量控制系統、去除刻蝕生成物和氣體的真空系統等組成??涛g反應系統包括傳感器、氣體流量控制單元和終點觸發探測器。一般的干法刻蝕中的控制參數包括真空度、氣體混合組分、氣流流速、溫度、射頻功率和硅片相對于等離子體的位置。常用的干法等離子體反應器類型包括圓筒式等離子體反應器、平板式反應器、順流刻蝕系統、三級平面反應器、離子銑、反應離子刻蝕器、高密度等離子體刻蝕機等。

        在線咨詢
        咨詢熱線

        13162861726

        [關閉]
        日本熟妇色一本在线看
      2. <span id="0sqjk"></span>

        <li id="0sqjk"></li>
        <button id="0sqjk"></button><s id="0sqjk"><tr id="0sqjk"><u id="0sqjk"></u></tr></s>

          <th id="0sqjk"></th>

            <dd id="0sqjk"><noscript id="0sqjk"></noscript></dd>

            <th id="0sqjk"></th>
            <tbody id="0sqjk"><center id="0sqjk"></center></tbody>
          1. <span id="0sqjk"></span>